IGZO技術是近來半導體顯示市場最熱門的技術，不過由于其在成膜過程中存在對氫氣敏感、膜質均勻性要求高等特點，大規模生產過程中存在成品率較低的問題。近日，半導體設備大廠應用材料推出適用于IGZO金屬氧化物薄膜生產的PVD和PECVD設備，促進IGZO新型顯示屏的大規模量產實施。

    IGZO成市場新熱點

    市場對顯示屏的需求越來越高：屏幕尺寸不斷擴大，今年智能手機5英寸屏幕逐漸成為主流，明年有望過渡到6.3英寸；分辨率越來越高，電視從高清到超高清，甚至出現4K、8K電視；此外OLED電視、柔性顯示等話題也不斷被炒熱。

    要實現上述性能，未來顯示技術必將從傳統的非晶硅顯示轉到金屬氧化物技術或低溫多晶硅技術之上。不過，隨著薄膜晶體管越來越小，玻璃基板尺寸越來越大，能否形成均勻的IGZO膜質，對成品率至關重要。

    為順應市場需求，半導體及顯示設備制造商應用材料公司日前推出了適用于IGZO金屬氧化物薄膜生產的AppliedAKT-PiVot55K/25kDTPVD和AppliedAKT55KSPECVD。應材表示，設備及工藝所提供的膜質均勻性和微粒控制性能可為客戶實現IGZO新型顯示屏大規模生產提供保障。

    旋轉耙材有利良率提升

    針對AKT-PiVotDTPVD設備(55K用于2200mm×2500mm的玻璃基板，25K用于1500mm×1850mm的玻璃基板)應用材料PVD產品事業部總經理約翰·布什表示，之所以能夠實現良好的膜質均勻性，與設備采用的旋轉靶材及等離子搖擺控制機能相關。首先，旋轉耙材的采用可以在耙材旋轉過程中，不停地通過冷卻水，使整個耙材表面的冷卻效果更好，達到溫度的均勻性，進而成就比較高的成膜速度。其次，可以大大提高耙材的利用率，與平面耙材相比，旋轉耙材的耙材利用率可以達到80%。再次，旋轉耙材可實現氣體均勻分布，IGZO屬于反應式濺射，耙材不斷旋轉，不斷接受濺射材料，耙材表面可以保持光滑，不會有小結瘤產生，保障膜質的均勻性，減少缺陷面板的形成。最后，旋轉耙材還有自清潔功能，平面耙材總會有些區域不被濺射到，這樣就會造成有些區域存在殘留物，而旋轉耙材不斷旋轉，所有表面都會得到利用。此外，旋轉耙材還有一個磁極搖擺功能，即通過磁極的搖擺控制等離子體的濺射方向，實現等離子轟擊的均勻性，從而實現膜質的均勻性。